Streuungsarmes Substrat CaF2 25.4mm Durchmesser
OPCFSP-25.4C05-10-5
Wir können einen speziellen optischen Polierservice für Optiken oder Keilsubstrate anbieten, die eine Oberflächenrauheit von <0,2 nm (Ra) erreichen. Diese Substrate mit geringer Streuung sind für Hochleistungslaser- und Röntgenanwendungen sehr gefragt.
◦Verwenden Sie ein keilförmiges Substrat für einen Strahlteiler, um Rückreflexionseffekte zu vermeiden.
◦CaF2 (Calciumfluorid) und MgF2(Magnesiumfluorid) werden hauptsächlich in mainly UV und IR für seine hohe Transmission.
◦Unsere hochtechnologische Verarbeitung führt zu einer geringen Oberflächenrauheit (mikroskopische Unregelmäßigkeiten) und einer präzisen Oberflächengenauigkeit (Ebenheit der gesamten Oberfläche).
◦CaF2 (Calciumfluorid) und MgF2(Magnesiumfluorid) werden hauptsächlich in mainly UV und IR für seine hohe Transmission.
◦Unsere hochtechnologische Verarbeitung führt zu einer geringen Oberflächenrauheit (mikroskopische Unregelmäßigkeiten) und einer präzisen Oberflächengenauigkeit (Ebenheit der gesamten Oberfläche).
Name | Streuungsarmes Substrat CaF2 25.4mm Durchmesser |
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Gewicht | 0.0090kgs |
Standardbeschichtungen verfügbar | Ja |
Leitfaden |
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Achtung |
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Durchmesser φD | 25.4mm |
Material | CaF<sub>2</sub> |
Material | CaF2 |
Surface roughness | <0.2nm(Ra) |
Typ | Optical Parallel |
Durchmesser φD | φ25.4mm |
Dicke t | 5mm |
Oberflächenebenheit | λ/10 |
Parallelität | <5″ |
Oberflächenqualität (Scratch-Dig) | 20−10 |
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SKU
OPCFSP-25.4C05-10-5
452,60 €
Wir können einen speziellen optischen Polierservice für Optiken oder Keilsubstrate anbieten, die eine Oberflächenrauheit von <0,2 nm (Ra) erreichen. Diese Substrate mit geringer Streuung sind für Hochleistungslaser- und Röntgenanwendungen sehr gefragt.