低散乱ウェッジ基板
WSSQSP-30C05-10-1
ウェッジ基板に特殊な研磨を行うことで、表面粗さを0.2nm(Ra)以下にしました。
基板の散乱の影響が気になる高出力レーザ用ミラーやX線用のミラーの基板として使用できます。
基板の散乱の影響が気になる高出力レーザ用ミラーやX線用のミラーの基板として使用できます。
◦ウェッジタイプはビームスプリッターなどの裏面反射の影響が気になる場合に使用します。
◦CaF2( フッ化カルシウム)、MgF2(フッ化マグネシウム)は紫外域及び赤外域で高い透過性があります。
◦表面粗さ(ミクロな凸凹)と同時に面精度(面全体の平坦さ)も高く加工されている理想に近い基板です。
◦CaF2( フッ化カルシウム)、MgF2(フッ化マグネシウム)は紫外域及び赤外域で高い透過性があります。
◦表面粗さ(ミクロな凸凹)と同時に面精度(面全体の平坦さ)も高く加工されている理想に近い基板です。
名前 | 低散乱ウェッジ基板 |
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質量 | 0.0080kgs |
Standard Coatings Available | はい |
Attention |
▶低散乱基板の両面ともコーティングされていません。ガラス表面には2.5%~4%の反射があります。 ▶ウェッジタイプを透過で使用した場合、ビームが0.5度程度傾斜します。 ▶CaF2は表面に傷がつきやすく、紙で拭くことはできません。ゴミや埃はエアーブロアーを使って取り除いてください。 ▶CaF2やMgF2は高湿の環境下で長時間放置すると、表面が荒れてきます。使用しない場合はオートドライなどの湿度が少ない環境で保管ください。 |
Diameter φD | 30mm |
Material | 合成石英 |
材質 | 合成石英 |
表面粗さ | <0.2nm(Ra) |
タイプ | ウェッジ |
外径 φD | φ30mm |
厚さ t | 5mm |
面精度 | λ/10 |
ウェッジ角度 W | 1°±5′ |
スクラッチ-ディグ | 10−5 |
在庫あり
SKU
WSSQSP-30C05-10-1
¥40,000.00
ウェッジ基板に特殊な研磨を行うことで、表面粗さを0.2nm(Ra)以下にしました。
基板の散乱の影響が気になる高出力レーザ用ミラーやX線用のミラーの基板として使用できます。
基板の散乱の影響が気になる高出力レーザ用ミラーやX線用のミラーの基板として使用できます。