低散乱ウェッジ基板
WSCFSP-30C05-10-1
ウェッジ基板に特殊な研磨を行うことで、表面粗さを0.2nm（Ra）以下にしました。
基板の散乱の影響が気になる高出力レーザ用ミラーやX線用のミラーの基板として使用できます。
基板の散乱の影響が気になる高出力レーザ用ミラーやX線用のミラーの基板として使用できます。
◦ウェッジタイプはビームスプリッターなどの裏面反射の影響が気になる場合に使用します。
◦CaF2（ フッ化カルシウム）、MgF2（フッ化マグネシウム）は紫外域及び赤外域で高い透過性があります。
◦表面粗さ（ミクロな凸凹）と同時に面精度（面全体の平坦さ）も高く加工されている理想に近い基板です。
◦CaF2（ フッ化カルシウム）、MgF2（フッ化マグネシウム）は紫外域及び赤外域で高い透過性があります。
◦表面粗さ（ミクロな凸凹）と同時に面精度（面全体の平坦さ）も高く加工されている理想に近い基板です。
| 名前 | 低散乱ウェッジ基板 |
|---|---|
| 質量 | 0.0120kgs |
| Standard Coatings Available | はい |
| Attention |
▶低散乱基板の両面ともコーティングされていません。ガラス表面には2.5%～4%の反射があります。 ▶ウェッジタイプを透過で使用した場合、ビームが0.5度程度傾斜します。 ▶CaF2は表面に傷がつきやすく、紙で拭くことはできません。ゴミや埃はエアーブロアーを使って取り除いてください。 ▶CaF2やMgF2は高湿の環境下で長時間放置すると、表面が荒れてきます。使用しない場合はオートドライなどの湿度が少ない環境で保管ください。 |
| Diameter φD | 30mm |
| Material | CaF<sub>2</sub> |
| 材質 | CaF2 |
| 表面粗さ | ＜0.2nm（Ra） |
| タイプ | ウェッジ |
| 外径 φD | φ30mm |
| 厚さ t | 5mm |
| 面精度 | λ/10 |
| ウェッジ角度 W | 1°±5′ |
| スクラッチ－ディグ | 20−10 |
在庫あり
SKU
WSCFSP-30C05-10-1
￥62,000.00
ウェッジ基板に特殊な研磨を行うことで、表面粗さを0.2nm（Ra）以下にしました。
基板の散乱の影響が気になる高出力レーザ用ミラーやX線用のミラーの基板として使用できます。
基板の散乱の影響が気になる高出力レーザ用ミラーやX線用のミラーの基板として使用できます。
