Cale en silice fondue synthétique à faible diffusion diamètre 50 mm cale 1 degré λ/10
WSSQSP-50C08-10-1
Nous pouvons vous fournir un service spécial de polissage optique pour des optiques ou des substrats à coin qui atteignent une rugosité de surface inférieure à 0,2 nm (Ra). Ces substrats à faible diffusion de la lumière sont très demandés pour les applications laser à haute puissance et les applications aux rayons X.
◦Utilisez un substrat calé pour un séparateur de faisceau afin d'éviter les effets de réflexion arrière.
◦CaF2 (fluorure de calcium) et MgF2 (fluorure de magnésium) sont principalement utilisés dans UV et IR pour sa transmission élevée.
◦Notre traitement hautement technique donne une faible rugosité de surface (irrégularités microscopiques) et une précision de surface de précision (planéité de toute la surface).
◦CaF2 (fluorure de calcium) et MgF2 (fluorure de magnésium) sont principalement utilisés dans UV et IR pour sa transmission élevée.
◦Notre traitement hautement technique donne une faible rugosité de surface (irrégularités microscopiques) et une précision de surface de précision (planéité de toute la surface).
| Nom | Cale en silice fondue synthétique à faible diffusion diamètre 50 mm cale 1 degré λ/10 |
|---|---|
| Poids | 0.0350kgs |
| Standard Coatings Available | Oui |
| Guide |
|
| Remark | - |
| Attention |
|
| Diameter φD | 50mm |
| Material | Synthetic fused silica |
| Matériel |
Silice fondue synthétique, fenêtres CaF2 pour ultraviolet MgF2 |
| Rugosité de surface | <0.2nm(Ra) |
| Diamètre φD | φ50mm |
| Épaisseur t | 8mm |
| Matériau | Silice fondue synthétique |
| Planéité de surface | λ/10 |
| Wedge angle | 1°±5′ |
| Qualité de surface (Rayures-Défauts) | 10−5 |
En stock
SKU
WSSQSP-50C08-10-1
820,30 €
Nous pouvons vous fournir un service spécial de polissage optique pour des optiques ou des substrats à coin qui atteignent une rugosité de surface inférieure à 0,2 nm (Ra). Ces substrats à faible diffusion de la lumière sont très demandés pour les applications laser à haute puissance et les applications aux rayons X.
