Substrat à faible diffusion CaF2 30,0 mm de diamètre
OPCFSP-30C05-10-5
Nous pouvons vous fournir un service spécial de polissage optique pour des optiques ou des substrats à coin qui atteignent une rugosité de surface inférieure à 0,2 nm (Ra). Ces substrats à faible diffusion de la lumière sont très demandés pour les applications laser à haute puissance et les applications aux rayons X.
◦Utilisez un substrat calé pour un séparateur de faisceau afin d'éviter les effets de réflexion arrière.
◦CaF2 (fluorure de calcium) et MgF2 (fluorure de magnésium) sont principalement utilisés dans UV et IR pour sa transmission élevée.
◦Notre traitement hautement technique donne une faible rugosité de surface (irrégularités microscopiques) et une précision de surface de précision (planéité de toute la surface).
◦CaF2 (fluorure de calcium) et MgF2 (fluorure de magnésium) sont principalement utilisés dans UV et IR pour sa transmission élevée.
◦Notre traitement hautement technique donne une faible rugosité de surface (irrégularités microscopiques) et une précision de surface de précision (planéité de toute la surface).
Nom | Substrat à faible diffusion CaF2 30,0 mm de diamètre |
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Poids | 0.0120kgs |
Standard Coatings Available | Oui |
Guide |
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Remark | - |
Attention |
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Diameter φD | 30mm |
Material | CaF<sub>2</sub> |
Matériel |
Silice fondue synthétique, fenêtres CaF2 pour ultraviolet MgF2 |
Rugosité de surface | <0.2nm(Ra) |
Diamètre φD | φ30mm |
Épaisseur t | 5mm |
Matériau | CaF2 |
Planéité de surface | λ /10 |
Parallélisme | <5″ |
Qualité de surface (Rayures-Défauts) | 20−10 |
En stock
SKU
OPCFSP-30C05-10-5
499,70 €
Nous pouvons vous fournir un service spécial de polissage optique pour des optiques ou des substrats à coin qui atteignent une rugosité de surface inférieure à 0,2 nm (Ra). Ces substrats à faible diffusion de la lumière sont très demandés pour les applications laser à haute puissance et les applications aux rayons X.