Substrat à faible diffusion CaF2 30,0 mm de diamètre

OPCFSP-30C05-10-5

Nous pouvons vous fournir un service spécial de polissage optique pour des optiques ou des substrats à coin qui atteignent une rugosité de surface inférieure à 0,2 nm (Ra). Ces substrats à faible diffusion de la lumière sont très demandés pour les applications laser à haute puissance et les applications aux rayons X.
◦Utilisez un substrat calé pour un séparateur de faisceau afin d'éviter les effets de réflexion arrière.
◦CaF2 (fluorure de calcium) et MgF2 (fluorure de magnésium) sont principalement utilisés dans UV et IR pour sa transmission élevée.
◦Notre traitement hautement technique donne une faible rugosité de surface (irrégularités microscopiques) et une précision de surface de précision (planéité de toute la surface).
Plus d’information
Nom Substrat à faible diffusion CaF2 30,0 mm de diamètre
Poids 0.0120kgs
Standard Coatings Available Oui
Guide
  • Les substrats en forme de coin sont marqués d'une flèche indiquant la direction de la surface avant au point de plus grande épaisseur.
Remark -
Attention
  • Les substrats à faible diffusion sont non revêtus ; la réflectance depuis la surface est de 2,5 % à 4 %.
  • Si vous utilisez un substrat à coin pour une application de transmission, le faisceau sera dévié d'environ 0,5 degré.
  • La surface du substrat de CaF2 est facilement rayée. N'utilisez pas de nettoyage par contact, veuillez utiliser un souffle d'air pour le nettoyage des saletés.
  • Les substrats de CaF2 et de MgF2 deviennent rugueux dans des environnements à haute température et forte humidité. Stockez-les dans une armoire optique sèche après utilisation.
Diameter φD 30mm
Material CaF<sub>2</sub>
Matériel Silice fondue synthétique, fenêtres CaF2 pour ultraviolet
MgF2
Rugosité de surface <0.2nm(Ra)
Diamètre φD φ30mm
Épaisseur t 5mm
Matériau CaF2
Planéité de surface λ /10
Parallélisme <5″
Qualité de surface (Rayures-Défauts) 20−10
En stock
SKU
OPCFSP-30C05-10-5
499,70 €

Delivery in : 6-12 weeks

Nous pouvons vous fournir un service spécial de polissage optique pour des optiques ou des substrats à coin qui atteignent une rugosité de surface inférieure à 0,2 nm (Ra). Ces substrats à faible diffusion de la lumière sont très demandés pour les applications laser à haute puissance et les applications aux rayons X.

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