Objektiv für Mikroskop 19.9mm Brennweite 10X
OBLR-10A
Diese reflektierenden Mikroskopobjektivlinsen sind für chromatische Aberration über eine Bandbreite von 350 nm bis 7 um optimiert. Sie werden hauptsächlich in der Mikroskop-Spektrometrie und Fehleranalyse in der Halbleiterindustrie eingesetzt.
◦Einstellbar für die Verwendung mit verschiedenen Arten von Mikroskoptuben mit Brennweiten von 80 mm bis unendlich
◦Der Reflexionsspiegel ist mit Aluminiumbeschichtung und MgF2-Schutzschicht verstärkt.
◦Der RMS( M20.32 P0.706) Befestigungsgewinde entspricht dem JIS-Standard und ist mit allen gängigen Mikroskoptuben kompatibel.
◦Der Fokuspunkt und die Bildgröße der sichtbaren, UV- und IR-Wellenlängen zeigt keinen Unterschied und eine genaue Anpassung der Bilder ist möglich .
◦Der Reflexionsspiegel ist mit Aluminiumbeschichtung und MgF2-Schutzschicht verstärkt.
◦Der RMS( M20.32 P0.706) Befestigungsgewinde entspricht dem JIS-Standard und ist mit allen gängigen Mikroskoptuben kompatibel.
◦Der Fokuspunkt und die Bildgröße der sichtbaren, UV- und IR-Wellenlängen zeigt keinen Unterschied und eine genaue Anpassung der Bilder ist möglich .
| Name | Objektiv für Mikroskop 19.9mm Brennweite 10X | 
|---|---|
| Gewicht | 0.3000kgs | 
| Standardbeschichtungen verfügbar | Nein | 
| Leitfaden | 
                            
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| Achtung | 
                            
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| Image Label | Reflective Microscope Objective 19.9mm Focal Length 10X | 
| Vergrößerung | 10× | 
| Numerische Apertur | 0.2 | 
| Arbeitsabstand WD | 16mm | 
| Magnification | 10× | 
| Wellenlängenbereich | 350nm - 7μm | 
| Brennweite | 19.9mm | 
| Numerical Apertur (NA) | 0.2 | 
| Visual field | φ1.0mm | 
| Working distance (WD) | 16mm | 
| Mechanical tube length | 80 - ∞mm (variable) | 
| Shielding ratio | etwa 36% | 
            Auf Lager
        
    
            SKU
        
OBLR-10A
    
    
                2.464,30 €
                            
            
            
Diese reflektierenden Mikroskopobjektivlinsen sind für chromatische Aberration über eine Bandbreite von 350 nm bis 7 um optimiert. Sie werden hauptsächlich in der Mikroskop-Spektrometrie und Fehleranalyse in der Halbleiterindustrie eingesetzt.
    

